著作権に関する声明

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当社は、上記著作権で保護されたコンテンツを当社の書面による許可なく公正使用の範囲を超えて使用した場合、法的責任を追及する権利を留保します。

商标声明

天和株式会社では、各国で公開されている商標登録情報に「Tenwa天和」などの文字や画像が商標登録保護されております。
許可なく上記の商標を使用すると、当社の登録商標権を侵害する可能性があります。当社は、登録商標権の侵害の疑いについて法的責任を追及する権利を留保します。

相关法律

「中華人民共和国刑法」(抜粋)
「中華人民共和国の商標法」
「インターネット安全維持に関する全国人民代表大会常務委員会の決定」
「コンピュータ情報ネットワークの国際ネットワークの安全保護管理に関する措置」
「コンピュータソフトウェア保護規則」

网站标识

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